據(jù)介紹，此次簽訂的合同標的位于該客戶新產(chǎn)業(yè)園的碳化硅產(chǎn)線，交付的機臺數(shù)量多達18臺（套），為之前4月簽訂的合同交付量的2倍，可覆蓋碳化硅器件刻蝕清洗全段工藝。

其中包含創(chuàng)微微電子全新研發(fā)的Swing-type Dry干燥設備，該設備可同時兼容6/8吋產(chǎn)線，極大地提升了設備開發(fā)效率。同時也再次鞏固了創(chuàng)微微電子6/8吋槽式及單片全自動濕法刻蝕清洗設備替代進口設備的能力。

source：捷佳偉創(chuàng)

據(jù)了解，官網(wǎng)資料顯示，創(chuàng)微微電子成立于2020年9月，專注于集成電路濕法清洗工藝設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務。其主要產(chǎn)品有4到12英寸批式及單晶圓刻蝕清洗濕法工藝設備，應用范圍涵蓋了Micro LED、第三代化合物、微機電、后端封裝及集成電路IDM和代工大廠所需的濕法工藝需求，滿足近90%濕法工藝步驟，包含有光刻膠去除、氧化膜刻蝕、金屬膜刻蝕、氮化硅刻蝕、爐管前清洗等。
據(jù)悉，2022年7月，由創(chuàng)微微電子研發(fā)生產(chǎn)的8英寸Cassette-less清洗設備交付至積塔半導體并開始驗證階段，運行情況良好。與此同時，創(chuàng)微微電子成功中標積塔半導體后續(xù)10余臺清洗設備訂單，制程涵蓋8英寸至12英寸。

目前，創(chuàng)微微電子已推出4-8英寸全自動Cassette type清洗設備、8英寸全自動Cassette-less清洗設備及4-8腔Single tool清洗設備，成功導入青島芯恩、成都德州儀器、積塔半導體等國內(nèi)頭部芯片企業(yè)并獲得重復性訂單。

值得一提的是，去年12月，蘇州市、無錫市、常州市工信局共同發(fā)布2023年蘇錫常首臺（套）重大裝備擬認定公示名單，創(chuàng)微微電子的單晶圓刻蝕清洗設備成功通過公示認定，實現(xiàn)首臺套零突破。（捷佳偉創(chuàng)、集邦化合物半導體整理）

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圖片來源：拍信網(wǎng)正版圖庫

捷佳偉創(chuàng)表示，此次中標，標志著創(chuàng)微微電子6/8英寸槽式及單片全自動濕法刻蝕清洗設備已經(jīng)覆蓋了SiC器件刻蝕清洗全段工藝，具備替代進口設備的能力。

據(jù)介紹，創(chuàng)微微電子的6/8英寸全自動濕法刻蝕清洗設備有優(yōu)異的顆粒去除能力、金屬污染控制能力、刻蝕均勻性控制能力，相關性能指標對標國際一線大廠；同時，該設備國產(chǎn)化零部件占比高并已獲得多家一線FAB廠量產(chǎn)驗證，具有成本優(yōu)勢；此外，該設備擁有自主開發(fā)軟件，可根據(jù)客戶工藝需求定制設備排程，實現(xiàn)客戶產(chǎn)能最大化。

官網(wǎng)資料顯示，創(chuàng)微微電子成立于2020年9月，專注于集成電路濕法清洗工藝設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務。其主要產(chǎn)品有4到12英寸批式及單晶圓刻蝕清洗濕法工藝設備，應用范圍涵蓋了Micro LED、第三代化合物、微機電、后端封裝及集成電路IDM和代工大廠所需的濕法工藝需求，滿足近90%濕法工藝步驟，包含有光刻膠去除、氧化膜刻蝕、金屬膜刻蝕、氮化硅刻蝕、爐管前清洗等。

據(jù)悉，2022年7月，由創(chuàng)微微電子研發(fā)生產(chǎn)的8英寸Cassette-less清洗設備交付至積塔半導體并開始驗證階段，運行情況良好。與此同時，創(chuàng)微微電子成功中標積塔半導體后續(xù)10余臺清洗設備訂單，制程涵蓋8英寸至12英寸。

目前，創(chuàng)微微電子已推出4-8英寸全自動Cassette type清洗設備、8英寸全自動Cassette-less清洗設備及4-8腔Single tool清洗設備，成功導入青島芯恩、成都德州儀器、積塔半導體等國內(nèi)頭部芯片企業(yè)并獲得重復性訂單。

值得一提的是，去年12月，蘇州市、無錫市、常州市工信局共同發(fā)布2023年蘇錫常首臺（套）重大裝備擬認定公示名單，創(chuàng)微微電子的單晶圓刻蝕清洗設備成功通過公示認定，實現(xiàn)首臺套零突破。（集邦化合物半導體Zac整理）

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