18臺碳化硅整線濕法設(shè)備,創(chuàng)微微電子再次中標(biāo)

作者 | 發(fā)布日期 2024 年 07 月 10 日 14:07 | 分類 功率

7月9日,光伏設(shè)備大廠捷佳偉創(chuàng)宣布,繼4月份半導(dǎo)體碳化硅整線濕法設(shè)備訂單并完成合同簽署后,近日公司子公司創(chuàng)微微電子(常州)有限公司(以下簡稱:創(chuàng)微微電子)再次斬獲另一家半導(dǎo)體頭部企業(yè)整線濕法設(shè)備訂單,目前已完成合同簽訂工作。

據(jù)介紹,此次簽訂的合同標(biāo)的位于該客戶新產(chǎn)業(yè)園的碳化硅產(chǎn)線,交付的機臺數(shù)量多達(dá)18臺(套),為之前4月簽訂的合同交付量的2倍,可覆蓋碳化硅器件刻蝕清洗全段工藝。

其中包含創(chuàng)微微電子全新研發(fā)的Swing-type Dry干燥設(shè)備,該設(shè)備可同時兼容6/8吋產(chǎn)線,極大地提升了設(shè)備開發(fā)效率。同時也再次鞏固了創(chuàng)微微電子6/8吋槽式及單片全自動濕法刻蝕清洗設(shè)備替代進口設(shè)備的能力。

source:捷佳偉創(chuàng)

據(jù)了解,官網(wǎng)資料顯示,創(chuàng)微微電子成立于2020年9月,專注于集成電路濕法清洗工藝設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務(wù)。其主要產(chǎn)品有4到12英寸批式及單晶圓刻蝕清洗濕法工藝設(shè)備,應(yīng)用范圍涵蓋了Micro LED、第三代化合物、微機電、后端封裝及集成電路IDM和代工大廠所需的濕法工藝需求,滿足近90%濕法工藝步驟,包含有光刻膠去除、氧化膜刻蝕、金屬膜刻蝕、氮化硅刻蝕、爐管前清洗等。
據(jù)悉,2022年7月,由創(chuàng)微微電子研發(fā)生產(chǎn)的8英寸Cassette-less清洗設(shè)備交付至積塔半導(dǎo)體并開始驗證階段,運行情況良好。與此同時,創(chuàng)微微電子成功中標(biāo)積塔半導(dǎo)體后續(xù)10余臺清洗設(shè)備訂單,制程涵蓋8英寸至12英寸。

目前,創(chuàng)微微電子已推出4-8英寸全自動Cassette type清洗設(shè)備、8英寸全自動Cassette-less清洗設(shè)備及4-8腔Single tool清洗設(shè)備,成功導(dǎo)入青島芯恩、成都德州儀器、積塔半導(dǎo)體等國內(nèi)頭部芯片企業(yè)并獲得重復(fù)性訂單。

值得一提的是,去年12月,蘇州市、無錫市、常州市工信局共同發(fā)布2023年蘇錫常首臺(套)重大裝備擬認(rèn)定公示名單,創(chuàng)微微電子的單晶圓刻蝕清洗設(shè)備成功通過公示認(rèn)定,實現(xiàn)首臺套零突破。(捷佳偉創(chuàng)、集邦化合物半導(dǎo)體整理)

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