瘋狂的碳化硅,國內(nèi)狂追

作者 | 發(fā)布日期 2024 年 01 月 24 日 16:58 | 分類 功率

近幾日,英飛凌在碳化硅合作與汽車半導體方面合作動態(tài)頻頻,再度引起業(yè)界對碳化硅材料關(guān)注。

1月23日,英飛凌與Wolfspeed宣布擴大并延伸現(xiàn)有的長期150mm碳化硅晶圓供應協(xié)議(原先的協(xié)議簽定于2018年2月)。延伸后的合作將包括一個多年期產(chǎn)能預留協(xié)議。這將有助于保證英飛凌整個供應鏈的穩(wěn)定,同時滿足汽車、太陽能、電動汽車充電應用、儲能系統(tǒng)等領域?qū)τ谔蓟璋雽w不斷增長的需求。

據(jù)英飛凌科技首席執(zhí)行官 JochenHanebeck 消息,為了滿足不斷增長的碳化硅器件需求,英飛凌正在落實一項多供應商戰(zhàn)略,從而在全球范圍內(nèi)保障對于150mm和200mm碳化硅晶圓的高品質(zhì)、長期供應優(yōu)質(zhì)貨源。

此外,近日英飛凌宣布與中國企業(yè)浙江富特科技股份有限公司(以下簡稱“富特科技”)成立創(chuàng)新應用中心。雙方將通過該中心進一步加強在車載電源領域半導體技術(shù)的深度合作,為新能源汽車車載電源市場提供更高效的解決方案,持續(xù)助推功率半導體器件在車載電源領域的應用技術(shù)升級。

資料顯示,富特科技成立于2011年,專注于新能源汽車高壓核心零部件產(chǎn)品的技術(shù)研發(fā)及智能制造,深耕車載電源和非車載電源兩大細分領域。此前2023年2月,富特科技宣布將在富特科技電動汽車充電解決方案中采用Wolfspeed E-系列SiC MOSFET,以期優(yōu)化解決方案性能和充電成本,為客戶帶來更好的充電體驗和成本效益。

另外,1月22日,英飛凌和格芯宣布達成一項新的多年期協(xié)議,格芯將為英飛凌生產(chǎn)AURIX TC3x 40納米汽車微控制器(MCU)以及電源管理和連接解決方案。

近幾年,英飛凌幾乎與產(chǎn)業(yè)鏈上主要的SiC襯底供應商都開展了合作,追其原因,主要是全球領先的SiC器件供應商如羅姆、安森美、意法半導體等都已陸續(xù)買下和投資了不同的優(yōu)質(zhì)SiC襯底供應商,建立起了企業(yè)的內(nèi)部襯底供應。

比如安森美有GTAT,ST有Norstel,羅姆有SiCrystal。英飛凌目前便只差這一環(huán)。其實早在2016年年中,英飛凌曾有意收購SiC襯底廠商Cree旗下Wolfspeed功率和射頻業(yè)務部,但由于美國政府的反對收購失敗。從此英飛凌便不斷加強襯底上的合作,確保其未來需求的外部供應。

SiC市場加速增長,上車是大勢所趨

近兩年,SiC市場愈發(fā)受到市場重視,陷入包括汽車、太陽能、儲能等應用領域紛紛加大碳化硅應用,鑒于SiC材料的優(yōu)越特性,行業(yè)客戶對SiC發(fā)展前景充滿信心,全球主要的SiC廠商如英飛凌、ST和安森美等都在大舉擴產(chǎn)建能。在2023年半導體市場萎靡之際,,SiC產(chǎn)業(yè)鏈一眾供應商業(yè)績亮眼,市場一度成為SiC的狂歡。

其中,汽車領域是SiC重點布局之一,尤其是新能源汽車。雖然2023年3月特斯拉在投資者大會上表示將減少75%的SiC用量,引起市場波動。但TrendForce集邦咨詢分析師表示,SiC的可靠性以及供應鏈的穩(wěn)定性確實令特斯拉信心不足,且當前SiC功率器件價格較高,特斯拉的這一決定或許并非出于對SiC的不信任,而是基于SiC發(fā)展現(xiàn)狀所做的讓步。畢竟是特斯拉率先在Model 3中采用碳化硅替代IGBT使得碳化硅嶄露鋒芒,未來重用碳化硅是預料之中。從業(yè)界動態(tài)看,華為對SiC的投資基本覆蓋了整個產(chǎn)業(yè)鏈,從國內(nèi)外車廠近期動態(tài)看,寶馬、邁凱倫、大眾、奔馳、現(xiàn)代起亞等在內(nèi)的一眾車企紛紛與Wolfspeed、英飛凌、ST意法半導體等半導體廠商簽訂合作協(xié)議以確保碳化硅產(chǎn)品的穩(wěn)定供應。

公開資料顯示,生產(chǎn)碳化硅器件主要包括襯底、外延、器件制造(設計、制造、封測)三大環(huán)節(jié),我國在上述三大領域均有布局,其中天科合達、天岳先進在碳化硅襯底上沉淀較久,外延設備上國內(nèi)廠商晶盛機電、北方華創(chuàng)則布局較深;外延片上,瀚天天成和東莞天域較為成熟和穩(wěn)定,且未來有規(guī)模產(chǎn)能開出。行業(yè)消息顯示,未來碳化硅器件有望通過襯底成本降低、技術(shù)改進、芯片尺寸優(yōu)化等方面達到成本降低的愿望,從而提升市占率。

襯底:國外龍頭壟斷,國內(nèi)奮起直追

大尺寸襯底能有效攤薄成本,是行業(yè)發(fā)展主流。目前碳化硅襯底主流尺寸是4/6寸,其中半絕緣型碳化硅襯底以4寸為主,導電型碳化硅襯底以6寸為主。據(jù)業(yè)界消息顯示,當襯底從6寸擴大到8寸時,可切割出的碳化硅芯片(32mm2)數(shù)量有望從448顆增加到845顆,增加了75%。當下國際上龍頭企業(yè)的碳化硅襯底正從6寸往8寸發(fā)展,包括Wolfspeed、II-VI以及國內(nèi)碳化硅襯底龍頭企業(yè)天岳先進等都已成功研發(fā)8英寸襯底產(chǎn)品。

從海內(nèi)外市占率看,Wolfspeed和II-VI公司在研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化方面領先國內(nèi)數(shù)十年,其中Wolfspeed/II-VI的6寸半絕緣型碳化硅襯底量產(chǎn)時間遠遠早于天岳先進。目前我國企業(yè)龍頭天科合達、天岳先進還在奮起直追。據(jù)天岳先進等龍頭企業(yè)財報數(shù)據(jù)顯示,在絕緣型襯底方面,天岳先進全球市占率約為30%。

圖片來源:拍信網(wǎng)正版圖庫

外延:國外企業(yè)主導型強,國內(nèi)未來規(guī)模產(chǎn)能穩(wěn)定

在外延片上,Wolfspeed與昭和電工占據(jù)了全球超90%的碳化硅導電型外延片市場份額,形成雙寡頭壟斷。目前我國由于進口外延爐供貨短缺,國內(nèi)外延爐仍需驗證并且外延工藝難度大,國內(nèi)SiC外延廠商較少,市占率較低。

就國內(nèi)企業(yè)看,瀚天天成和東莞天域技術(shù)及產(chǎn)能較為穩(wěn)定。技術(shù)上,兩者在6英寸外延均較為成熟和穩(wěn)定,在8英寸均有儲備。產(chǎn)能方面,瀚天天成2022年6英寸產(chǎn)能達12萬片,2023年計劃產(chǎn)能40萬片(包括6/8英寸),至2025年產(chǎn)能目標約140萬片;東莞天域2022年6英寸產(chǎn)能達8萬片,并且啟動年產(chǎn)100萬片的6/8英寸外延項目,預計2025年竣工并投產(chǎn)。

外延設備國產(chǎn)化是國內(nèi)發(fā)展的重中之重,目前國內(nèi)廠商晶盛機電、北方華創(chuàng)、中電48所等正在加強研究,其中晶盛機電6寸單片式碳化硅外延設備已實現(xiàn)國產(chǎn)替代,2022年公司外延設備市占率居國內(nèi)前列。2023年6月晶盛機電又成功研發(fā)8英寸單片式碳化硅外延生長設備,引領國產(chǎn)替代。

器件制造:設計、制造、封測缺一不可,道阻且長

在碳化硅器件制造設計端上,SiC二極管商業(yè)化正在逐步完善,但SiC MOS發(fā)展較面臨較多難點,與國外廠商差距較大。目前ST、英飛凌、Rohm等廠商已實現(xiàn)600-1700V SiC MOS實量產(chǎn)并和多制造業(yè)達成簽單出貨;國內(nèi)則還處于設計流片階段,距離大規(guī)模商業(yè)化仍有較長時間。

碳化硅器件制造則與設備國產(chǎn)化進程息息相關(guān),設備需求主要包括高溫離子注入機、高溫退火爐、SiC減薄設備、背面金屬沉積設備、背面激光退火設備、SiC襯底和外延片表面缺陷檢測和計量。近幾年是國產(chǎn)設備廠商的黃金發(fā)展3年,我國上述設備在近幾年得到較快發(fā)展。

在碳化硅器件封測領域,氮化硅主要采用AMB工藝,更受行業(yè)歡迎。據(jù)悉,AMB工藝生產(chǎn)的陶瓷襯板主要運用在功率半導體模塊上作為硅基、碳化基功率芯片的基底。由于氮化硅陶瓷基板的多種特性與第3代半導體襯底SiC晶體接近,使其能夠與SiC晶體材料匹配更穩(wěn)定,因此成為SiC半導體導熱基板材料首選,特別在800V以上高端新能源汽車中應用中不可或缺。

另外,目前以硅基材料為主的IGBT模塊在具有高導熱性、高可靠性、高功率等要求的軌道交通、工業(yè)級、車規(guī)級領域正逐漸采用AMB陶瓷襯板替代原有的DBC陶瓷襯板。中國AMB陶瓷基板更多是依賴進口,國內(nèi)廠商包括博敏電子、富樂華正在加速擴產(chǎn)。

結(jié)語

目前,行業(yè)整體對于碳化硅的發(fā)展充滿信心,行業(yè)消息顯示,未來碳化硅器件有望通過大面積襯底進一步改善碳化硅成本,并在設計、器件制造、封裝各個環(huán)節(jié)改進技術(shù),設計更小尺寸芯片,使得碳化硅單位晶圓產(chǎn)出更高。

綜合各方預測顯示,2021年SiC MOSFET為Si器件成本的3倍,到25年有望降至2.5倍附近,而業(yè)界通常認為2-2.5倍是碳化硅大規(guī)模滲透的成本臨界點,故當前及未來2年處于SiC爆發(fā)的前夜?;趯π录夹g(shù)、新材料的變革信心,未來隨著良率的大幅提升,規(guī)模優(yōu)勢下成本的不斷下降,相信碳化硅將迎來爆發(fā)性成長。

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